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一、产品介绍
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL:Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。
二、基本参数
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等
光学精度：2μm
打印层厚：5-20μm
打印尺寸：
①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）
②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）
③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）
文件格式：STL
系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量：550kg
电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW
三、应用领域
类巴基球结构
应用领域：生物医药
特点：整体尺寸：0.2×0.2×0.2 mm³
杆径：10μm
中空多孔结构
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