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2μm精度微纳3D打印系统
简要描述：nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL:Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。
一、产品介绍
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL:Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。
二、基本参数
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等
光学精度：2μm
打印层厚：5-20μm
打印尺寸：
①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）
②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）
③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）
文件格式：STL
系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量：550kg
电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW
三、应用领域
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域
四、企业简介
摩方精密（BMF,Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发，提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案，同时，可结合不同材料及工艺，实现终端产品高效、低成本批量化生成及销售。
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